PH metrology
2016-10-10 本文已影响45人
Taofca
量测 metrology
常见的光刻量测有以下几种
Thickness (厚度）
REG=registration=overlay=套刻
CD critical dimension 关键尺寸
Particle monitor
Thickness (厚度）
合适并且标准的膜厚为了标准尺寸服务，经常见到的CD drift 好多是因为thickness变化.
REG=registration=overlay=套刻
不同半导体层次的对准，
CD critical dimension 关键尺寸
常见的CD 结构（feature）
line
space
contact hole
Particle monitor
