中国量产芯片光刻机为什么落后十几年？这三个原因你能想到几个？

中国在量产芯片的光刻机上跟国外最先进的水平是什么样的差距？

中国目前能够量产芯片的光刻机，真正用到商用的光刻机是上海微电子设备的90纳米的光刻机，而国际上最先进的光刻机是荷兰ASML（Advanced Semiconductor Material Lithography，中文名是阿斯麦尔）生产的EUV光刻机（极紫外光源光刻机），极紫外光源光刻机能够生产22纳米以下的芯片，目前ASML能够生产量产5纳米芯片的光刻机，前一段时间，三星在第一季度财报中表示，第二季度将会量产5纳米的芯片！

中国光刻机现状

所以中国在商用量产芯片光刻机这个领域跟国际上最先进的水平是差了接近10几年的水平，虽然中国取得了一定的突破，比如像武汉光电中心的甘棕松团队，利用二束激光在国产光刻机上突破了光束衍射极限的限制，刻出了最小9nm，这个技术我们拥有完全自主产权。再比如光刻机核心子系统双工件台系统样机研发项目通过内部验收，为我国自主研发65nm至28nm双工件干台式及浸没式光刻机奠定了基础”。但是在这方面的积累还是需要一个很漫长的过程，毕竟ASML是这样一代一代发展下来的，在光刻机研发方面的经验是比中国要多很多的！即使有了一定的突破，但目前还是在实验室的阶段，想要真正成为能够大批量量产芯片的光刻机还是要静下心来，仔细把一些细节给处理好，不能做出一点成绩都漫天的吹嘘，各种浮夸的新闻，只为了套经费之类的！

上海微电子设备光刻机

之前的“汉芯”难道不就是活生生的例子吗？利用翻新的芯片，来套取国家的经费，对于漫天新闻都在吹嘘取得了什么样什么样的突破，我个人的看法就是没有商用，不能够量产芯片，一切不算是最新的光刻机水平，待在科研界你就知道了，有的时候纯粹为了发更好的文章或者获取更多的经费的一种“夸张”叙述方式而已！而外界属于不清楚内部的情况！这跟画大饼没啥区别，只是会讲故事而已，把好的一面展现给公众！

所以对于量产芯片的光刻机，中国目前确实是落后国际最先进的水平差不多十几年！那中国为什么会在这个过程中落后了呢？笔者从三个方面来阐述：

大时代背景

中国2001年刚刚加入世贸组织，刚刚改革开放20多年，所以中国当时的经济处于高速发展的状态，那时候的GDP增速都常年维持在10%左右，也是因为高速的GDP增速所以中国更注重很多基础设施的建设，比如像高速公路，很多信号塔等，当时时代的背景下，需要让更多的人民迈入小康社会，让更多的人过上好日子，所以对于一些高端的科技，没有更多的精力去提高科技领域的竞争力！

基础建设

尤其是中国加入世贸组织后，在全球化的背景下，不少中国企业为了短时间节省更多的成本，会坚持一个理念“经济全球化的前提下，能够买到的产品，一般不会投入更多的钱去研发！”因为研发前期不会有更多的利润！所以长期积累，在高科技的发展上就会相对落后，但是随着中国成为第二大经济体，威胁到某些国家的地位，对中国的一些高科技公司进行打压，所以中国高科技自主研发刻不容缓，也是时代背景的需要，因为中国现在大部分人已经迈入小康，基础设施的建设相对全面，中国有很多的精力放在自主研发上，不仅仅是光刻机，还有更多其他的高科技技术！

瓦森纳协定

瓦森纳协定，是1996年以美国为首33个国家签署的协议，说白一点就是一个技术联盟，尤其是针对一些发展中国家禁止出口一些高端技术之类，主要涵盖了先进材料、材料处理、电子器件、计算机、电信与信息安全、传感与激光、导航与航空电子仪器、船舶与海事设备、推进系统等9大类！

瓦森纳协议

中国那时候经济高速发展，高端的一些民用科技，相对落后，所以这个协议也对中国是起作用的，2018年中芯国际要从ASML进口7纳米的光刻机，但是最后没有成功获得荷兰的出口许可！

光刻机核心零部件的研发

荷兰ASML的光刻机发展其实不是一家公司的发展，而是西方工业革命积累的这么多年！一台光刻机的研发需要8000多不同种类的零部件，这些零部件来自几百家供应商，像德国蔡司的各种反光镜核心部件，这是真的有很高的技术壁垒，想要做到这样的整合能力，真的需要不断的积累和突破一些关键性的零部件的技术，如果中国想要突破，很大程度上需要投入更多的研发经费和更多的科研人才！

蔡司镜头

所以这些关键的零部件没法攻克的话，中国在自主研发光刻机这条路上将会是非常坎坷的！

总结

以上就是个人对于中国商用量产芯片的光刻机之所以落后国际先进水平的三个原因！中国光刻机的发展肯定要配合中国时代的需要，所以接下来几年，甚至十几年是中国科技高速发展的时代，我们拭目以待！

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