纳米集成电路制造工艺.pdf
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作 者 ：张汝京编著
出版发行 : 北京：清华大学出版社 , 2017.01
ISBN号 ：978-7-302-45233-1
页 数 ： 471
原书定价 : 89.00
开本 : 26cm
主题词 : 纳米材料-集成电路工艺
中图法分类号 : TN405 ( 工业技术->无线电电子学、电信技术->微电子学、集成电路（IC）->一般性问题 )
内容提要:本书共分19章，涵盖先进集成电路工艺的发展史，集成电路制造流程、介电薄膜、金属化、光刻、刻蚀、表面清洁与湿法刻蚀、掺杂、化学机械平坦化，器件参数与工艺相关性，DFM（DesignforManufacturing），集成电路检测与分析、集成电路的可靠性，生产控制，良率提升，芯片测试与芯片封装等项目和课题。
参考文献格式 : 张汝京编著.纳米集成电路制造工艺[M].北京：清华大学出版社,2017.01.
