Photo process and metrology and

名词

COT：coater(涂胶）

EXP：exposure（曝光）

DEV：developer（显影）

REG：registration 、overlay （套刻）

CD:critical dimension （关键尺寸）

INSP:inspection （光学显微镜目检）

RDA:realtime defect analysis （即时缺陷分析）

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Photo process and metrology and defect basic relationship